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凌晨三點，半導體工廠的無塵車間依然燈火通明。
工程師李正站在一臺龐大的光刻機旁，手中握著的不是常規工具，而是一個手掌大小的顯示屏，上面跳動著令人屏息的數字：X軸 0.001°，Y軸 -0.0005°。
這是SELN-001B正在進行的第37次微調，目標是將水平誤差控制在±0.001°以內，相當于每米長度上不超過0.0175毫米的偏差。在芯片制造領域，這個數字代表著合格與報廢的分界線。
當芯片制程進入納米時代，7納米、5納米甚至更精細的工藝對設備穩定性提出了近乎苛刻的要求。光刻機作為芯片制造的核心設備，其工作臺的任何微小傾斜都會導致光路偏移。
這種偏移在硅片上會被放大數萬倍，直接影響電路圖案的精確度。
在如此精密的制造過程中，傳統的水平測量工具如同用米尺測量微生物，完1全無法滿足需求。這正是SELN-001B誕生的背景——專為這個對精度有著極1致追求的行業而生。
SELN-001B的設計哲學圍繞著一個核心：在極1端條件下保持絕1對可靠的精度。
雙軸同步監測系統允許同時測量X軸和Y軸的水平狀態，4.3英寸彩色觸摸屏實時顯示兩個方向的數據，模擬氣泡水平儀的直觀界面降低了專業門檻，卻提供了數字技術的精確性。
這款設備的傳感器被特意設計得小巧緊湊，尺寸僅為Φ50×19毫米。這一設計使它可以輕松進入傳統水平儀無法觸及的狹窄空間，無論是垂直間隙還是設備內部角落，都能完成精準測量。
量程切換功能提供了0.01/0.001/0.0001三檔精度選擇，如同顯微鏡的變焦鏡頭，既能快速定位問題區域，又能進行微米級的精細調整。
在半導體制造的全流程中，SELN-001B扮演著“隱形校準師"的角色。
光刻機工作臺的調平只是開始，在刻蝕設備中，它確保反應腔室的絕1對水平，保障刻蝕均勻性；在薄膜沉積設備旁，它驗證基臺的水平度，使每個原子層都能均勻沉積。
李工回憶起一次緊急情況：一臺關鍵光刻機突然出現良率下降，常規檢查無果后，他用SELN-001B發現了工作臺0.002°的微小傾斜，這個肉眼無法察覺的偏差正是問題的根源。
調整后，設備良率在24小時內恢復正常，避免了數百萬的潛在損失。
SELN-001B帶來的不僅是精度，更是工作方式的革新。
其“合格范圍設置"功能允許預設可接受的角度區間，測量結果會以色塊直觀顯示——綠色表示合格，紅色提示需要調整。這一功能使即使經驗不足的技術人員也能快速做出準確判斷，大幅降低了人為誤差。
雙軸同步顯示則改變了傳統單軸水平儀需要反復調整的工作流程。以往需要多次測量、反復調整的作業，現在可以同時觀察兩個軸向的狀態，將設備調平時間平均縮短了40%-50%。
在芯片工廠，時間直接等同于產能和利潤。
隨著黎明將至，李工完成了最1后一次校準。SELN-001B的屏幕上，雙軸數字穩定顯示著“0.000°"，旁邊亮起了表示合格的綠色標識。
車間外的天空開始泛白，光刻機即將開始新一天的工作，在硅片上刻畫比發絲細萬倍的電路。
在這個以納米為單位計量的世界里，那微不足道的0.001°水平偏差，往往承載著價值千萬元的芯片命運走向。
