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更新日期：2025-05-02
簡(jiǎn)要描述：
日本advance riko桌面型快速退火爐MILA-5000 系列MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐，可以進(jìn)行快速升降溫，潔凈加熱。MILA-5000系列將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經(jīng)濟(jì)型退火爐，可以在不同的氣氛下進(jìn)行加熱。可通過(guò)USB連接電腦并進(jìn)行監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。
日本advance riko桌面型快速退火爐MILA-5000 系列
MILA-5000系列
MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐，可以進(jìn)行快速升降溫，潔凈加熱。MILA-5000系列將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經(jīng)濟(jì)型退火爐，可以在不同的氣氛下進(jìn)行加熱。可通過(guò)USB連接電腦并進(jìn)行監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。
MILA-5000UHV
MILA-5000UHV是一款在MILA-5000-P-N（高溫型）基礎(chǔ)上升級(jí)的一款高真空型退火爐。該系列繼承了MILA-5000系列的的特點(diǎn)：快速升降溫，潔凈加熱，可在不同的氣氛下加熱。同樣可以通過(guò)USB連接PC進(jìn)行溫度監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。
MILA-5000系列
鐵電薄膜的晶體退火。
離子注入后的擴(kuò)散退火，氧化膜沉積退火。
硅和復(fù)合晶片的燒結(jié)，合金化處理。
玻璃基板溫度均勻退火。
熱循環(huán)，熱沖擊，熱疲勞測(cè)試。
程序升溫解吸測(cè)試，催化效果測(cè)試。
MILA-5000UHV
在超高真空中進(jìn)行熱處理。
程序升溫解吸氣體分析爐。
MILA-5000系列
1. 50℃/S的快速升溫.
2. 可在真空，惰性氣體，流動(dòng)氣氛，空氣的氣氛下進(jìn)行加熱
3. 精確的溫度控制
4. 緊湊，桌面型設(shè)計(jì)
5. 通過(guò)USB連接電腦與爐體，可進(jìn)行溫控程序的編輯與傳輸
加熱過(guò)程中可通過(guò)電腦監(jiān)測(cè)加熱數(shù)據(jù)
MILA-5000UHV
可進(jìn)行超高真空的熱處理
搭配分子泵，真空度可達(dá)到10-5Pa
繼承了MILA-5000-P-N的全部特點(diǎn)
緊湊，桌面型設(shè)計(jì)
通過(guò)USB連接電腦與爐體，可進(jìn)行溫控程序的編輯與傳輸
加熱過(guò)程中可通過(guò)電腦監(jiān)測(cè)加熱數(shù)據(jù)
MILA-5000系列
| 型號(hào) | MILA-5000-P-N (高溫型) | MILA-5000-P-F (均勻加熱型) |
|---|---|---|
| 控溫范圍 | RT ～ 1200 °C | RT ～ 800 °C |
| 樣品尺寸 | □ 20 × t 2 (mm) | |
| 加熱氣氛 | 空氣，靜態(tài)氣氛，流動(dòng)氣氛，真空 | |
* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。
高真空型
| 型號(hào) | MILA-5000UHV |
|---|---|
| 控溫范圍 | RT ～ 1200 °C |
| 樣品尺寸 | □ 20 × t 2 (mm) |
| 加熱氣氛 | 空氣，靜態(tài)氣氛，流動(dòng)氣氛，真空 |
* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。
日本advance riko桌面型快速退火爐MILA-5000 系列
