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日本union研發臺式光刻設備EMA-400 光學測量儀

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更新日期:2024-03-23

簡要描述:

日本union研發臺式光刻設備EMA-400
該產品是一種節省空間且易于操作的掩模對準器,具有高性能和低成本,使其成為大學和企業實驗室的理想選擇。

日本union研發臺式光刻設備EMA-400 光學測量儀
品牌其他品牌產品種類臺式
數顯功能溫控功能
產地進口

日本union研發臺式光刻設備EMA-400

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該產品是一種節省空間且易于操作的掩模對準器,具有高性能和低成本,使其成為大學和企業實驗室的理想選擇。 該產品是同類產品中采用兩用顯微鏡和集成透鏡(照明系統)的產品,可實現高精度的對準和燃燒。

日本union研發臺式光刻設備EMA-400

面罩尺寸高達 □5"
晶圓尺寸最大φ4英寸
曝光照明250W超高壓汞燈
光學方法 積分器透鏡方法
不均勻照度±5%以下
照度 20mW/cm2 (405nm)
有效曝光范圍 φ100mm
曝光:帶數字計時器的旋轉電磁閥驅動器
曝光模式軟接觸,硬接觸
分辨率2μm(硬觸點)
對齊范圍雙顯微鏡
10 x 2x 物鏡 (N.A. 0.15 寬深 30mm)
物鏡間距 15~75mm
目鏡NWF10×(18 視野)
整體放大倍率:100x
晶圓臺XY載物臺行程±5mm
θ 旋轉行程 ±5°
Z軸行程 0~4mm
對齊方式通過晶圓平臺移動手動對準
對準精度±3微米
安裝尺寸735(寬)×490(深)×605(高)毫米
安裝重量約90公斤
效用電源 AC100V 15A 50/60Hz
真空(壓力)21.3kPa(大氣壓以上-80kPa)
N2 氣體或干燥空氣(壓力) 0.2 MPa 或更高





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